ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復雜：除In?O?、SnO?外，含粘結劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現價值化的關鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

ITO靶材回收流程：

1. 收集廢靶材：收集來源：面板廠、鍍膜廠等使用ITO靶材的企業(yè)。

2. 表面處理/預處理 ：清洗表面雜質、油污、物理去除殘留膜層

3. 靶材分離：機械切割或分解、分離金屬基板與ITO涂層

4. 濕法冶金回收：用酸（如硝酸、鹽酸等）溶解ITO層、萃取液中回收銦和錫元素

5. 純化與精煉 萃取、沉淀等精細化學手段，獲得高純度的銦、錫化合物

6. 再利用 提純后的銦、錫用于制備新ITO靶材或其他用途

目前，市場上已有不少專業(yè)的ITO靶材回收企業(yè)，他們通過先進的回收技術和設備，將廢舊ITO靶材中的銦、錫等元素進行有效分離和提純，再加工成新的靶材產品，實現了資源的循環(huán)利用。