廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復(fù)雜：除In?O?、SnO?外，含粘結(jié)劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現(xiàn)價值化的關(guān)鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

ITO（氧化銦錫，Indium Tin Oxide）靶材廣泛應(yīng)用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽能電池等行業(yè)。隨著ITO靶材的廣泛使用，其回收再利用成為降低成本、減少資源浪費、保護環(huán)境的重要環(huán)節(jié)。

ITO靶材主流回收技術(shù)：

機械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學(xué)回收：利用酸堿進行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。

在當(dāng)今環(huán)保意識日益增強的時代，銦靶材的回收再利用成為了行業(yè)內(nèi)關(guān)注的焦點。ITO靶材，作為銦錫氧化物靶材的簡稱，廣泛應(yīng)用于平板顯示、太陽能電池等領(lǐng)域，其回收價值不言而喻。