主流電鍍類型及應(yīng)用場(chǎng)景
不同電鍍金屬的特性差異顯著，需根據(jù) PCB 的終用途選擇，常見類型對(duì)比如下：
電鍍類型 核心成分 關(guān)鍵特性 典型應(yīng)用場(chǎng)景
酸性鍍銅 硫酸銅、硫酸 鍍層純度高（99.9% 以上）、導(dǎo)電性好、易增厚 多層板過(guò)孔電鍍（孔壁銅）、線路銅層增厚
氰化物鍍銀 氰化銀、氰化物 導(dǎo)電性、焊接性好，但易硫化發(fā)黑 高頻通信 PCB（如 5G 基站板）、射頻電路
無(wú)氰鍍銀 硫代硫酸鹽等 環(huán)保（無(wú)劇毒氰化物），性能接近氰化物鍍銀 消費(fèi)電子 PCB（如手機(jī)主板）、環(huán)保要求高的場(chǎng)景
化學(xué)鍍鎳金 鎳磷合金 + 純金 耐腐蝕性強(qiáng)、接觸電阻低、耐高溫 連接器 PCB（如 USB 接口板）、按鍵板
熱風(fēng)整平（HASL） 錫鉛合金（或無(wú)鉛錫） 成本低、焊接適應(yīng)性強(qiáng)，但表面平整度差 傳統(tǒng)消費(fèi)
前處理：確保鍍層結(jié)合力（關(guān)鍵環(huán)節(jié)）
去油脫脂：使用堿性清洗劑（如氫氧化鈉溶液）去除基板表面的油污、指紋，避免鍍層與基板結(jié)合不良。
微蝕：用酸性溶液（如過(guò)硫酸銨 + 硫酸）輕微腐蝕銅箔表面，形成粗糙的微觀結(jié)構(gòu)（增大接觸面積），同時(shí)去除銅表面的氧化層。
活化：針對(duì)非銅表面（如過(guò)孔內(nèi)壁的樹脂），使用鈀鹽溶液活化，形成 “催化核心”，為后續(xù)化學(xué)鍍銅提供附著點(diǎn)。
化學(xué)鍍銅（沉銅）：在無(wú)外接電源的情況下，通過(guò)化學(xué)反應(yīng)（如甲醛還原硫酸銅）在過(guò)孔內(nèi)壁和基板表面沉積一層薄銅（厚度 0.5-1μm），為后續(xù)電解鍍銅 “打底”。
石墨烯孔金屬化工藝是與傳統(tǒng)化學(xué)銅，黑影/日蝕等平行的線路板孔金屬化技術(shù)，屬于直接電鍍工藝，其特點(diǎn)可靠，低成本，低碳環(huán)保節(jié)能降耗，可循環(huán)再利用。
相比黑影/日蝕，黑孔，導(dǎo)電膜等其他空金屬化工藝，石墨烯孔金屬化工藝采用二維材料高導(dǎo)電-石墨烯材料作為導(dǎo)電材料，高導(dǎo)電，超薄，吸附性強(qiáng);物理性吸附;
石墨烯超低固含量0.01%-0.5%，徹底避免黑影，日蝕，黑孔等工藝常見的ICD異常問(wèn)題;
在導(dǎo)通測(cè)試中，阻值變化為1.43%，IPC標(biāo)準(zhǔn)≤10%;在極限熱沖擊測(cè)試中，沉銅27次，石墨烯孔金屬化工藝31次;
生產(chǎn)效率
水平線生產(chǎn)速度1.5-6.0m/min，具體根據(jù)基材厚度，小孔徑，盲孔，縱橫比等參數(shù)調(diào)整，整個(gè)流程時(shí)間在4-10min;
